瑞泽牌瑞泽净化-接受非标定制氩气净化机型号齐全RZ-YA-D
详细信息
| | 品牌：瑞泽牌 | | 型号：RZ-YA-D | | 加工定制：是 | |
| | 应用领域：化工;石油;医用、制药;食品 | | 作用原理：催化吸附 | | 外形尺寸：1100*1100*1850 mm | |
| | 重量：450 kg | | 处理能力：1~1500 m3/h | | | |
瑞泽净化-接受非标定制氩气净化机、净化装置，型号齐全、产品设备质量保证
高纯氩气纯化设备
一、 概述
氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气体，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。
由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，使用氩气的客户不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。
一般氧含量小于0.5ppm，水分小于1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体的质量是有保证的。
二、 关于氩气纯化的方法
1.直接脱氧法。就是使用活性金属与氩气中的氧气进行反应，消化掉氩气中的氧气，从而达到脱氧的目的，经过分子筛吸收掉氩气中的水份，使氩气的含水量小于1ppm。
2.是采用吸气剂。在一定温度下，吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后，氩气的纯度可达到6个九，这种保护气体更适用于制作高纯度的半导体的单晶硅。
利用吸气剂纯化后氩气的纯度：
O2≤0.2ppm
H2≤0.5ppm
N2≤1ppm
CO+CO2≤0.5ppm
CH4≤0.5ppm
水份≤1ppm
方法1设备投资小，设备中脱氧剂的使用寿命一般大于四年。
方法2设备纯化纯度高但投资相对较大，吸气剂使用寿命为两年。
扫一扫，手机浏览
￥980000.00
￥480000.00
￥28000.00
￥3200000.00
￥350000.00
￥128000.00
